快科技3月13日消息，据韩国媒体报道，三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NA EUV光刻机——EXE:5000，价值高达5000亿韩元（约合24.88亿元人民币）。

日本Rapidus联盟携北海道IIM-1晶圆厂加入战局，计划2027年实现EUV量产，但行业寡头格局短期难以改变。 ASML作为EUV设备唯一供应商，其订单积压已超过三年。台积电美国厂、英特尔欧美扩建项目、三星德州代厂工计划对EUV设备的渴求，使得供需缺口持续扩大。

快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在 ...

快科技2月25日消息， Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产 。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV ...

英特尔是全球首家接收这些新型光刻机的芯片制造商，该设备预计将生产出比旧款 ASML 机器更小、更快的计算芯片。 此前，英特尔在采用上一代极紫外（EUV）光刻机方面落后于竞争对手。英特尔曾花费七年时间才将旧款光刻机投入全面生产，这一过程中的可靠性 ...

2024年9月，上海微电子一项编号CN202310226636.7的专利引爆全球半导体圈。这项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的技术，首次在EUV光刻机核心子系统取得实质性突破。通过电场约束+氢自由基反应技术，带电粒子污染减少率超90%，镜面寿命提升至1000小时 ...