作为晶圆代工行业中最重要的产品，光刻机的优秀与否将决定制程工艺的先进性，而目前在EUV领域，毫无疑问ASML成为了绝对的巨头，几乎垄断了EUV光刻机的生产与研发。广大晶圆代工巨头也等待着ASML推出的新一代光刻机来提升自己的代工实力。

IT之家 2 月 1 日消息，ASML 总裁兼首席执行官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度财报电话会议上表示，该企业的首台第二代 0.55 (High) NA EUV 光刻机 TWINSCAN ...

之后，我们以每个封装（芯片封装）的每秒浮点运算次数作为指标，可以发现摩尔定律在加速。 此外，摩尔定律加速发展的因素之一是晶体管的持续变小，而ASML的EUV光刻机在持续地做出贡献。最后，笔者会预测到2050年时候的全球半导体市场，并谈谈我的想法。

哈工大官宣了一则新消息，突破了13.5nm极紫外光源，这项技术是EUV光刻机的核心技术，目前只有美企掌握了，这也是ASML听美的主要原因。 哈工大公布这一消息后，台积电ASML都沉默了。 因为ASML多次公开称，EUV光刻机不是一个国家就能完成的，ASML集合了40多个 ...

如果佳能的说法正确，其设备最终将以极低的成本生产出具有EUV品质的芯片。 该公司的方法与极紫外光刻系统完全不同，极紫外光刻系统由总部位于荷兰的阿斯麦（ASML）独家生产。这家荷兰公司采用一种复杂的工艺：首先用千瓦级的激光将熔化的锡滴击打成 ...

最后，对于中芯国际面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得 ASML 的 EUV 光刻机，而这些设备是在尖端节点上生产芯片所需的。然而 ...

该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳（CO2）激光器的 10 倍，并有望在多年后取代光刻系统中的 CO2 激光器。 过去数十年来 ...

“我们的工作已经在EUV光刻界产生了相当大的影响，所以我们现在很高兴迈出这一步。” 里根和LLNL等离子体物理学家杰克逊·威廉姆斯是该项目的联合首席研究员。该项目包括来自SLAC国家加速器实验室、ASML圣地亚哥分公司以及荷兰的先进纳米光刻研究中心 ...

[导读]1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定基础。 1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器 ...

（华盛顿4日讯）半导体设备巨头艾司摩尔（ASML）推出新一代高数值孔径极紫外光（High NA EUV）曝光设备，其价格昂贵程度令人咋舌，最高达3.7亿美元（约16.66亿令吉），堪比三架F-35战斗机的价格，但这台天价机器却隐藏致命弱点，就是地震和牛只放屁。 华尔街 ...